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EDI雙極反滲透水處理設(shè)備的工藝構(gòu)成及計(jì)價(jià)模塊

2023-03-17 00:10 瀏覽:2 來(lái)源:鍋爐之家   
核心摘要:EDI雙極反滲透水處理設(shè)備的工藝構(gòu)成及計(jì)價(jià)模塊文中闡述了二次ro反滲透+EDI污水處理、EDI去離子水設(shè)備的工業(yè)領(lǐng)域和市場(chǎng)的需求。一、多介質(zhì)過(guò)濾本環(huán)節(jié)的主要目標(biāo)是粗過(guò)慮飲用水,提前準(zhǔn)備進(jìn)到ro反滲透膜,保證進(jìn)到ro反滲透膜前達(dá)到一定水體,維護(hù)ro反滲透膜使用效果和使用期限。該全過(guò)程是由細(xì)沙、活性碳和反滲透設(shè)備過(guò)慮原水

EDI雙極反滲透水處理設(shè)備的工藝構(gòu)成及計(jì)價(jià)模塊

文中闡述了二次ro反滲透+EDI污水處理、EDI去離子水設(shè)備的工業(yè)領(lǐng)域和市場(chǎng)的需求。

一、多介質(zhì)過(guò)濾

本環(huán)節(jié)的主要目標(biāo)是粗過(guò)慮飲用水,提前準(zhǔn)備進(jìn)到ro反滲透膜,保證進(jìn)到ro反滲透膜前達(dá)到一定水體,維護(hù)ro反滲透膜使用效果和使用期限。該全過(guò)程是由細(xì)沙、活性碳和反滲透設(shè)備過(guò)慮原水箱的飲用水,清除水雜質(zhì)、有機(jī)化合物、膠體溶液、懸浮固體,避免這種粗顆粒殘?jiān)M(jìn)到ro反滲透膜后阻塞ro反滲透膜。通過(guò)粗過(guò)濾后,水體獲得了一定程度的改進(jìn)。并允許進(jìn)到下一個(gè)連接。

二、一級(jí)ro反滲透

通過(guò)粗濾水再經(jīng)過(guò)ro反滲透膜為一級(jí)ro反滲透膜,ro反滲透膜為半透膜,能防止Ga2+、Mg2+,F(xiàn)e-2,SO4-2,Cl-1,Na+當(dāng)大正離子根據(jù)時(shí),為了確保ro反滲透性能和ro反滲透膜的維護(hù),務(wù)必持續(xù)向ro反滲透器皿加上阻垢緩蝕劑,水的溫度必須要在25℃左右(冬天應(yīng)用蒸汽加熱器),確保一定的壓力,(應(yīng)用立泵)在一定壓力之下,含去離子水根據(jù)ro反滲透膜擠壓成型,產(chǎn)生二種水,全部根據(jù)ro反滲透膜水,即產(chǎn)品水進(jìn)到下一個(gè)環(huán)節(jié),沒(méi)經(jīng)ro反滲透膜水排出來(lái),通過(guò)一次ro反滲透解決水進(jìn)到下一個(gè)環(huán)節(jié)——二次ro反滲透。

三、二次ro反滲透

二次ro反滲透的原理與一次ro反滲透同樣,其的作用是進(jìn)一步清除水里的鹽份,(Ga2+,Mg2+,F(xiàn)e-2,SO4-2,Cl-1,Na+等離子)使水體進(jìn)一步提高,二次ro反滲透后,水體電阻率可達(dá)到1MΩ.CM。通過(guò)一、二次ro反滲透預(yù)備處理后,最后保存水變成EDI供電,沒(méi)經(jīng)ro反滲透膜水(濃水)立即排出來(lái),占比一般為1:3、即每制造一噸達(dá)標(biāo)水,就需要排出來(lái)3噸左右的濃水(原水)。

四、EDI(Electrodeionization)解決

二次反滲透水貯存在正中間的儲(chǔ)水箱中,99%以上正離子已經(jīng)被清除??墒牵?yàn)檫M(jìn)一步提高水體,造成超純水系統(tǒng),需要通過(guò)電滲析法清除融解在水中營(yíng)養(yǎng)元素和二氧化碳,即EDI解決。其工作原理如下所示:EDI是持續(xù)電除鹽,是運(yùn)用混和離子交換柱吸咐給水里的離子。與此同時(shí),那些被吸咐的正離子在交流電壓的影響下根據(jù)陰陽(yáng)離子交換膜被清除。在這過(guò)程中,離子交換柱是電持續(xù)循環(huán)再生,所以不用強(qiáng)酸強(qiáng)堿再造。該方法能夠取代傳統(tǒng)的離子交換法設(shè)備,造成達(dá)到18M的電阻Ω.CM的超純水系統(tǒng)。該方法被稱作水處理行業(yè)的革命。與傳統(tǒng)離子交換法對(duì)比,EDI主要有以下優(yōu)勢(shì):EDI不用有機(jī)化學(xué)再造;EDI再造不用關(guān)機(jī);給予平穩(wěn)水質(zhì);能耗低;操作簡(jiǎn)便,勞動(dòng)效率低;使用成本低。

(1)EDI給水處理

給排水預(yù)備處理對(duì)EDI以及必要性,構(gòu)件的使用期、性能維護(hù)保養(yǎng)量在于給排水雜質(zhì)成分。假如EDI提供良好的預(yù)備處理水,構(gòu)件清洗率就會(huì)下降。EDI濃水一部分循環(huán)系統(tǒng)(當(dāng)給水的硬度低、導(dǎo)電性低時(shí),不可以循環(huán)系統(tǒng)),另一部分可回到ro反滲透給排水,也可以作為別的主要用途或者直接排進(jìn)下水管道。

(2)EDI的零部件構(gòu)造

1、淡水室:在陰陽(yáng)離子交換膜中間添充離子交換柱,產(chǎn)生談水模塊。

2、濃水室:用網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)物將每個(gè)EDI模塊分隔,產(chǎn)生濃水室。

3、極水室。

4、保溫板和卡緊板。

5、開(kāi)關(guān)電源與水道聯(lián)接。EDI可并列運(yùn)行,可獲得更多的總流量。

(3)EDI全過(guò)程

鈉、鈣、鎂、氟化物、磷酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物一般存在大城市水資源中。這種化學(xué)物質(zhì)由負(fù)電的陽(yáng)離子和正電的陰離子構(gòu)成。經(jīng)過(guò)ro反滲透預(yù)備處理,99%以上正離子能消除。除此之外,原水里還會(huì)帶有別的營(yíng)養(yǎng)元素、溶解氣體(如CO2)和一些鹽類水解(如硼、二氧化硅),必須要在工業(yè)生產(chǎn)除鹽水中清除。但是,ro反滲透全過(guò)程對(duì)這種雜質(zhì)清除作用較弱。

這種質(zhì)子交換膜不可以水根據(jù)。因而,它們可以防護(hù)談水和濃水。質(zhì)子交換膜與離子交換柱工作原理類似,可以使特定離子遷移。陰質(zhì)子交換膜只可以陽(yáng)離子根據(jù),不可以正離子根據(jù);陽(yáng)離子交換膜正好相反。在一對(duì)陰陽(yáng)離子交換膜中間添充混和離子交換柱,產(chǎn)生EDI模塊。混和離子交換柱在陰陽(yáng)離子交換膜中間占有空間稱之為淡水室。列舉一定數(shù)量的EDI模塊,更替排序陰質(zhì)子交換膜和陽(yáng)離子交換膜,用網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)物將每個(gè)EDI模塊分離產(chǎn)生濃水室。在給定的交流電壓的影響下,在淡水室中,離子交換柱里的離子在靜電場(chǎng)的影響下轉(zhuǎn)移到正負(fù),根據(jù)陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂進(jìn)到濃水室。與此同時(shí),供電里的正離子被離子交換柱吸咐,占有正離子電轉(zhuǎn)移空間。實(shí)際上,離子的轉(zhuǎn)移和吸咐是一起和持續(xù)所發(fā)生的。根據(jù)這一過(guò)程,給水里的正離子根據(jù)質(zhì)子交換膜進(jìn)到濃水室,被清除,變?yōu)槌}水。

帶負(fù)電的陽(yáng)離子(如0H)—、Cl—)被正級(jí)(+)吸引住,根據(jù)陰質(zhì)子交換膜進(jìn)到周邊的濃水室。自此,那些正離子在不斷向正級(jí)轉(zhuǎn)移的過(guò)程中出現(xiàn)了周邊的陽(yáng)離子交換膜,陽(yáng)離子交換膜不允許根據(jù)。這種正離子被阻攔在濃水里,根據(jù)人體陰陽(yáng)膜正離子在濃水里維持電荷平衡。EDI元件的電流量與離子遷移正相關(guān)。電流量由兩個(gè)部分組成,一部分來(lái)源于清除離子的轉(zhuǎn)移,另一部分來(lái)源于水自身水解所產(chǎn)生的H+和0H,這種當(dāng)?shù)厮a(chǎn)生的H+和0H-持續(xù)再造離子交換柱。

EDI部件里的離子交換柱可分為兩個(gè),一部分稱之為工作中環(huán)氧樹(shù)脂,另一部分稱之為拋光樹(shù)脂,二者的界限稱之為工作中最前沿。運(yùn)行環(huán)氧樹(shù)脂關(guān)鍵起導(dǎo)電性功效,拋光樹(shù)脂持續(xù)互換和再造。工作中環(huán)氧樹(shù)脂擔(dān)負(fù)清除絕大多數(shù)離子的每日任務(wù),而拋光樹(shù)脂擔(dān)負(fù)清除鹽類水解等無(wú)法消除的離子的每日任務(wù)。

(4)EDI開(kāi)關(guān)電源

所使用的DC電源需在運(yùn)行電壓范圍之內(nèi)中央空調(diào),并能夠提供再造所需要的工作電壓。DC電源功率應(yīng)符合EDI峰值電流(6A)的需求。DC電源的諧波失真率不得超過(guò)30%。太高的諧波失真率會(huì)讓EDI模塊在一瞬間承擔(dān)高過(guò)表面合理電流量/工作電壓,對(duì)部件造成損壞。當(dāng)好幾個(gè)EDI部件共用一個(gè)DC電源時(shí),每一個(gè)EDI工作電壓/電流量應(yīng)單獨(dú)可調(diào)式。配置電流表和電流計(jì)。與此同時(shí),應(yīng)配備過(guò)流保護(hù)設(shè)備。為了維護(hù)EDI部件,當(dāng)流過(guò)EDI元件的水流量小于某一點(diǎn)時(shí),應(yīng)斷電。

5.純凈水的儲(chǔ)存和給排水

EDI處理過(guò)的水可是制成品水,保存在純儲(chǔ)水箱中。為了確保水體,一般采用N2封閉的方式,也就是從純儲(chǔ)水箱頂端沖氮。給排水后,液位儀繼電器與PLC相互配合。當(dāng)純儲(chǔ)水箱水位小于最低水位時(shí),PLC運(yùn)行水處理程序流程,系統(tǒng)運(yùn)行逐漸水處理,直至純儲(chǔ)水箱水位做到最高水位。系統(tǒng)軟件終止水處理。那樣,純儲(chǔ)水箱總是有一定的水位線。

電鍍工藝去離子水設(shè)備的特點(diǎn)就是水質(zhì)穩(wěn)定,成本費(fèi)較低。去離子水設(shè)備是由ro反滲透、離子交換器、EDI等方式清除水里離子的水處理系統(tǒng)。去離子水設(shè)備質(zhì)量穩(wěn)定,廣泛用于藥業(yè)、電子器件、化工廠、夾層玻璃、渡涂、加熱爐、試驗(yàn)室等領(lǐng)域。

去離子水設(shè)備電鍍工藝的生產(chǎn)流程

1、選用離子交換法方法,源水加工工藝如下所示→源水加壓水泵→砂濾器→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)慮床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→人體陰陽(yáng)環(huán)氧樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→自來(lái)水點(diǎn)

2、選用ro反滲透方法,源水加工工藝如下所示→源水加壓水泵→砂濾器→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲(chǔ)水箱

3、選用ro反滲透加混床的形式,其工序如下所示:源水→原水加壓水泵→砂濾器→多介質(zhì)過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→ro反滲透→純儲(chǔ)水箱→加壓水泵→離子混和床→反滲透設(shè)備→用水點(diǎn)

(責(zé)任編輯:小編)
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