??催化燃燒設(shè)備的造型要求

1、盡可能采用技術(shù)：通過改進設(shè)備結(jié)構(gòu)，使吸附裝置能保持在較佳狀態(tài)下運行，使所設(shè)計的吸附系統(tǒng)處理能力大、收益大。

2、認(rèn)真考慮經(jīng)濟因素：所設(shè)計的吸附裝置和系統(tǒng)盡可能地簡化，易于安裝、維修，使用壽命不錯，同時要使系統(tǒng)操作簡便，易于管理，以節(jié)省投資及運行費用。

3、吸附裝置出入口排氣需要達到排放標(biāo)準(zhǔn)：這是對吸附裝置的起碼要求。

4、設(shè)備選型要面向生產(chǎn)實際：設(shè)備選型要考慮實際生產(chǎn)中的規(guī)模、排氣量、排污方式（連續(xù)或間歇，均勻排放還是非均勻排放）、污染物的物化特性、回收還是進一步處理等因素，正確選擇吸附裝置和吸附工藝系統(tǒng)，對一些特別污染物或特別要求的場合。選擇工藝系統(tǒng)時還應(yīng)考慮生產(chǎn)的發(fā)展，留有適當(dāng)?shù)挠嗟亍?/p>n

利用光化學(xué)反應(yīng)降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學(xué)氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過photo-Fenton反應(yīng)產(chǎn)生HO使污染物得以降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加大量的光敏半導(dǎo)體材料，同時結(jié)合大量的光輻射，使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導(dǎo)體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生HO等氧化性不錯的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等使污染物全部或接近全部礦化。

催化燃燒設(shè)備在工業(yè)廢氣治理上有很重要的貢獻，過濾形式采用內(nèi)濾器，布?xì)饩鶆颍^濾面積大。活性炭吸附裝置緊湊，面積小，易于維護，運行成本還行。能同時處理多種混合廢氣。過濾器快速變化，操作簡單穩(wěn)定。全部密封，室內(nèi)和室外都可用。

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